삼성전자가 반도체 생산시설의 유해가스 배관을 가동 중에도 청소하는 로봇 유지보수 기술의 미국 특허를 출원했다. 로봇은 배관 안을 이동하며 오염물을 제거하고, 내화학 소재와 감지 센서를 활용한다. 오염물 흡입과 밀봉 처리도 자동화해 작업자의 유해물질 노출을 줄이고 정비 효율을 높이는 것이 목표다. 뉴스1이 보도했다.