삼성전자가 ASML과 차세대 반도체 제조 기술 개발 협력을 확대한다. 양사는 12인치 포토 마스크 공동 개발에 참여하고, 2028년까지 첨단 D램 제조에 High NA EUV 노광 설비 도입을 위한 협력을 강화한다. 이번 협력은 AI 반도체 제조 성능과 효율을 높이는 데 기여할 것으로 기대된다.