ベルギーのimecにASMLの高NA EUV露光装置「EXE:5200」が搬入されました。これにより、NanoICプロジェクトを通じて2nmおよび1.4nmプロセスでの半導体試作受託が可能になります。imecは、この装置が2026年第4四半期までに認証取得を見込んでおり、欧州の先端半導体研究開発を強化する上で重要な役割を果たすとしています。