中国が最先端半導体製造に不可欠なEUV露光装置の試作に成功したとの報道。しかし、日本のニッチトップ技術が今後の障壁となる可能性も指摘されている。この技術は最先端半導体製造の鍵であり、その国産化の動向が注目される。